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正置式金相顯微分析系統

Jul 27,2019

設備名稱:正置式金相顯微分析系統

型    號:OLYMPUS BX53M

生產廠家:奧林巴斯

        主要用途

    金相顯微鏡廣泛地應用于高校科研、工廠科研理化及科學研究機構實驗室進行材料性能分析、原材料檢驗、電子部件、PCB線路板、半導體材料、材料失效分析等檢測,或工藝處理后材料表面組織的研究分析工作,提供直觀的分析結果,是研究材料性能,進行質量鑒定分析的關鍵設備。須進行樣品制備工作。

具體應用領域:

1    

2    

2.1   樣品表面處理鍍(涂)層檢驗

表面處理鍍(涂)層厚度、表面粗糙度、鍍(涂)層孔隙率。

2.2   半導體/LCD、MEMS、精密機械部件、電子器件、PCB等

微米級部件的尺寸測量,各種工藝(顯影、刻蝕、金屬化、CVD、PVD、CMP等)后表面形貌觀察,缺陷分析。

2.3   金屬材料樣品

相分析;晶粒度、夾雜物檢驗、灰鑄鐵、球墨鑄鐵檢驗、硬質合金檢驗。

2.4   樣品斷裂失效分析、摩擦學、腐蝕等表面工程

2.5   有色金屬及合金樣品

鋁鎂合金,銅及銅合金相分析;晶粒度、夾雜物檢驗。

2.6   各種材料(仿制前)解剖

材料成分、熱處理狀態。

2.7   金屬焊接接頭檢驗

焊縫中心區、熱影響區、基體組織檢驗。


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