德國OBLF光電直讀光譜儀，使用火花發(fā)射光譜儀進(jìn)行樣品分析通常需要在樣品表面的各個(gè)位置至少進(jìn)行兩次火花，以確保檢測到任何不均勻性，如夾雜物和氣孔，并可以計(jì)算真實(shí)的平均值。由于樣品必須移動(dòng)測量，因此總分析時(shí)間不僅由火花的時(shí)間組成，而且還包括樣品定位和重新定位的時(shí)間。

多年來，對進(jìn)一步縮短分析時(shí)間的需求已經(jīng)出現(xiàn)，尤其是鑄造廠和鋼鐵廠等主要生產(chǎn)商的需求。起初，我們能夠用更高的預(yù)火花能量和火花頻率來實(shí)現(xiàn)這一點(diǎn)，但這受限于制預(yù)火花能量和火花頻率的上限。因此，OBLF引入了一種新的技術(shù)，它同樣容易有效。

經(jīng)分析，樣品位于火花架的孔上，在火花前沖洗，以排出空氣。通過高壓應(yīng)用，電極和樣品之間產(chǎn)生電火花。樣品材料產(chǎn)生的侵蝕在等離子體中被霧化并熱刺激。在樣品上標(biāo)記了燒傷點(diǎn)。對于下一個(gè)測量，必須移動(dòng)樣品。但是，為什么不塑造火花支架孔橢圓形，而不是圓形，以包括兩個(gè)而不是一個(gè)電極？因此，無需移動(dòng)樣品即可對兩個(gè)不同的位置執(zhí)行測量。我們稱之為新的火花支架雙電極火花支架。在下圖中可以看到：

節(jié)省時(shí)間不僅僅限于樣品的重新定位，而且凈化只進(jìn)行一次，因?yàn)閮蓚€(gè)電極都位于同一個(gè)火花支架中。此外，通過引入具有更高頻率的新型高性能激勵(lì)發(fā)生器，可以交替預(yù)燃兩個(gè)燃燒點(diǎn)，而不會(huì)影響其等離子體。以下曝光時(shí)間 （Exp.） 只是以旋轉(zhuǎn)方式執(zhí)行。以下時(shí)間方案通過比較標(biāo)準(zhǔn)并比較鋼樣示例中的雙電極火花來顯示節(jié)省時(shí)間。

在標(biāo)準(zhǔn)火花支架上，包括氮的完整分析大約需要 40 秒，而使用雙電極火花支架時(shí)只需 23 秒。兩個(gè)燃燒點(diǎn)的計(jì)算出的濃度將在屏幕上顯示為單獨(dú)的火花，當(dāng)公差內(nèi)自動(dòng)平均時(shí)。這意味著：按一次啟動(dòng)，等待23秒，分析完成。就這么簡單！